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簡要描述：Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圓形）薄膜偏振片（圓形）將S和P偏振分量分開。 由于在800 nm，50 fsec時(shí)達(dá)到100 mJ / cm2的高損傷閾值，它們可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產(chǎn)品。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2025-11-01訪 問 量：1316相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圓形）
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圓形）
薄膜偏振片（圓形）將S和P偏振分量分開。 由于在800 nm，50 fsec時(shí)達(dá)到100 mJ / cm2的高損傷閾值，它們可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產(chǎn)品。
產(chǎn)品介紹
Ø標(biāo)準(zhǔn)薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0％
Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0％
Ø對于高消光比的薄膜偏振片，Tp> 98％，Ts <0.1％
Ø標(biāo)準(zhǔn)和高透射偏振片的消光比> 200：1
Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000：1（HE系列）
薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由于在800 nm，50 fsec時(shí)達(dá)到100 mJ / cm2的高損傷閾值，薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chǎn)品。
薄膜偏振片用于高能激光器。它們可用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波或腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為200：1。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號(hào)
高消光比的薄膜偏振片； UVFS; Tp> 98％，Ts <0.1％
型號(hào) | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1242HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 343 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1244HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1266HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 780-820 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1256HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1248HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
高透射率薄膜偏振片； 紫外線FS; Ts <0.2％，Rp <0.2％
型號(hào) | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1256UHT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 |
420-1248UHT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 |
高透射率薄膜偏振片； 紫外線FS; Rs / Tp> 99.5 / 99.0％
型號(hào) | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1242HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
420-1244HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
420-1256HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
420-1248HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
標(biāo)準(zhǔn)薄膜偏振片； BK7; Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％
型號(hào) | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-0114E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0126E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0136E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0118E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0138E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0244E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0256E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0266E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0248E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0268E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0514E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0506E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0526E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0518E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0528E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
標(biāo)準(zhǔn)薄膜偏振片； UVFS; Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％
型號(hào) | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1110E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 266 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1112E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1123E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 400 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1114E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1126E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1136E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1118E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1138E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1240E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 266 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1242E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1253E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 400 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1244E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1256E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1266E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1248E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1268E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1510E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 266 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1512E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1503E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 400 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1514E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1506E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1526E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1518E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1528E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
材料 | BK7, UV FS |
表面質(zhì)量 | 20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
透射波前畸變 | λ/10 @ 633 nm |
透射效率 | Tp>95% |
消光比Tp / Ts | > 200：1（用于標(biāo)準(zhǔn)和HT系列） > 1000：1（對于HE系列） |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm，50 Hz |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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