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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma FEMTOLINE零級雙波長波片
Eksma FEMTOLINE零級雙波長波片
這些零級雙波長板用于Ti：Sapphire和Yb：KGW / KYW激光器。
EKSMA OPTICS為Ti：Sapphire和Yb：KGW / KYW激光器提供零級雙波長板。當光軸旋轉45度以輸入偏振時，零級雙波長波片將基本波長旋轉90度，而二次諧波波長的偏振保持不變。
型號 | 描述 | 增透膜 | 激光損傷閾值 | 應用 |
465-4211 | optically contacted; λ/2@800 nm + λ@400 nm | 800+400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical | Ti:Sapphire |
466-4211 | air-spaced; λ/2@800 nm + λ@400 nm | 800+400 nm | 100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical | Ti:Sapphire |
465-4212 | optically contacted; λ/2@1030 nm + λ@515 nm | 1030+515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 1030 nm typical | Yb:KGW/KYW |
466-4212 | air-spaced; λ/2@1030 nm + λ@515 nm | 1030+515 nm | 100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 1030 nm typical | Yb:KGW/KYW |
材料 | 單晶石英 |
光軸 | 垂直于緩速器圓周上的刻面 |
通光孔徑 | Ø17mm |
環安裝外徑 | 25.4mm+ 0.0 / -0.12mm |
表面質量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm |
平行性 | <10弧秒 |
增透膜 | R <0.5％ |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。
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